图3
叶芽的Se K x射线吸收近边光谱答:芥过度生产SMT和控制工厂。（一个不同植物谱线的归一化谱线(填充圆)，与每个谱线拟合到标准谱线的线性组合(实线)的结果叠加。（B)对A中所示样本的两个例子进行拟合反卷积。每个面板显示数据和拟合(如A中所示)、残差(下面的虚线)和根据标准对拟合的贡献按比例缩放的光谱。采用硒蛋氨酸(RSeR)、脂肪族硒铵(R3.Se+),亚硒酸盐(SeO3.2－)(均在水溶液中)和元素硒(Se0）.测试了其他标准(未显示):硒酸盐水溶液对拟合没有贡献，二甲基硒氧化物比硒物种的拟合更差(根据残留物判断)。值得注意的是，硒代蛋氨酸被选择为RSeR物种的代表，其光谱与MeSeCys的光谱不能可靠地区分。（C)硒的化学形态在足底拍摄的答:芥过度生产SMT和控制工厂。Se K x射线吸收近边光谱符合，如图所示2，以提供硒在芽中形态的定量资料答:芥．总硒积累量(图1 c)和物种形成百分比相结合，可产生不同硒种的绝对浓度。